二手 AIXTRON Crius 31x2" #9169077 待售

AIXTRON Crius 31x2是两区化学气相沉积（CVD）反应堆，性能卓越，用途广泛。它特别为工业用途而制定，是其领域中最先进的反应堆之一。该反应堆有能力制造材料均匀性和稳定性方面质量极高的聚合物薄膜，使其成为从事各种工业应用的公司，如半导体、OLED和太阳能以及医疗植入装置的宝贵工具。Crius 31x2配备了两个加工区，温度范围可达950 °C。这允许使用者在每个区域处理不同的材料来製作各种薄膜。它可以采用4通道供气选项，允许同时输送多达4种气体，并装有直径25厘米的敏感器。反应堆提供了一个非常稳定和均匀的温度分布，具有穿过感应表面的高温梯度。这种高度精确的控制是由内置的垂直快速加热/冷却模块实现的。AIXTRON专利气体溷合显示系统可确保气体溷合物在百万分之一范围内的最佳精度。此外，Crius 31x2配备了一个miniFDC™（傅立叶域级联多变量气体控制器），以防止由于气体成分的突然变化而引起的膜形成过程中的任何干扰。miniFDC提供最多两个独立的控制环路，最多四个气体，并提供了一个简单和精确的膜形成过程的控制。反应堆还有一个集成的监控系统，允许用户跟踪所有参数，包括压力、温度和气体溷合物。这一监控系统还有助于控制和优化流程，保证优质终端产品。AIXTRON Crius 31x2是一个功能强大、应用范围广泛的先进反应堆，是工业生产OLED、半导体、太阳能电池和医疗植入物等各种材料的理想选择。它为电影制作提供了一个可靠高效的平台，具有出色的均匀性和稳定性，使用户能够高精度地创造出优质的产品。