二手 AIXTRON Crius 31x2" #9186411 待售

AIXTRON Crius 31x2是一种高科技化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于材料的超高通量沉积和表面调节。31x2具有大直径2.5英寸的加热区域,提供卓越的温度均匀性以及薄膜和非均匀表面的均匀热分布。这使得反应器非常适合用于石墨烯和纳米线复合材料等先进材料的表面改性。Crius 31x2采用高效的低温等离子体辅助CVD （PA-CVD）工艺，能够在高效、低压和温度条件下沉积金属和金属氧化膜。这一工艺表现出了更高的效率、出色的薄膜厚度均匀性以及可控和可重现的表面。Crius 31x2的另一个优点是与其他传统热沉积工艺相比，该工艺的吞吐量高。通过使用等离子体，反应器能够沉积比热过程快3至5倍的薄膜。Crius 31x2反应堆采用快速热退火器（RTA）进行材料表面调节。RTA被集成到腔室中，在广泛的温度范围内进行快速热退火。这可以改善材料的表面活化，清除污染物，并实现表面重构。RTA还能够进行沉积后热处理。31x2还配备了独立的气体注入系统，对气流进行精确、均匀的控制。这使得工艺气体可以被严密监控和严密控制，为用户提供对CVD反应的高水平控制。这一特性的便利性确保了沉积工艺的条件和参数能够仔细准确地调整，以生产所需的产品和材料。Crius 31x2还提供了一个专门的催化等离子体灰化系统，以及一个专门的，高温冷却的熔炉，旨在支持超高沉积速率。该系统完全数字化，具有简化的用户界面，便于控制和操作。AIXTRON Crius 31x2是一种功能强大、直观、高效的CVD工艺,专为高级材料的沉积而定制。其独特的特性和技术具有改进的吞吐量、均匀性和可重复性,从而提高了材料表面质量。