二手 AIXTRON Crius 31x2" #9300899 待售
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AIXTRON Crius 31x2是用于半导体材料外延沉积的边缘定义膜馈电生长（EFG）反应器。它是一个高吞吐量、经济高效的沉积平台，专为生产和研究应用而设计。AIXTRON Crius 31x2反应堆装有双面晶片装载机，可处理多达150毫米（6英寸）晶片尺寸，提高晶片吞吐量。它还可以每边处理多达八个晶圆，使得周期时间短。AIXTRON Crius 31x2配备了微波辅助沉积（MWAD）设备，用于等离子体生成。这确保了高反应性、低能量、深渗透等离子体场，从而实现高沉积速率和优越的薄膜。高效的MWAD系统使AIXTRON Crius 31x2能够提供高效且经济高效的沉积过程。它能够产生高质量的外延层，具有良好的均匀性和优质基板的阶跃覆盖率。EFG源和基板支架组件的设计便于定制,以满足特定的客户需求。源持有者在沉积过程中使用射频天线优化工艺参数。EFG源可以手动调整，进行精确处理和微调。基板支架采用八元三区目标组件，用于基板的均匀加热。一种速度可调的排气装置，提供了最佳的压力条件和可控的环境。AIXTRON功能强大的过程控制软件提供了一个用户友好的界面，便于设置和监控机器。操作员可以调整气体流量、功率水平、基板温度和大气压力等参数。该工具提供实时反馈，用于评估和优化外延沉积过程。AIXTRON Crius 31x2是生产先进薄膜结构的可靠高效的沉积平台。该平台所启用的高效射频增强沉积工艺使其成为工业和研究应用的理想且经济高效的解决方桉。它是一种高效的外延膜生产工具，具有均匀性和极好的阶梯覆盖率。
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