二手 AIXTRON Crius I #192608 待售

AIXTRON Crius I是用于复合半导体薄膜沉积的多功能外延反应器。是一款300 mm水平冷壁CVD工具，配备LPCVD、PECVD、EPI、MBE等多种工艺技术。Crius I腔室的温度范围很广,允许高温（HT）沉积高达1000 °C,低温（LT）沉积降至100 °C。AIXTRON Crius I先进的工艺控制功能可实现精确掺杂剂控制、严密温度控制、精确功率控制以及量身定制的气体流量。Crius I提供强大的光学监控功能,包括实时胶片厚度和发射率测量,使用户能够监控每个工艺层并确保所有胶片均符合最高质量标准。AIXTRON Crius I是一个高度自动化的平台,使用户能够配置和保存会议厅设置以及配方配置文件。Crius还具有其他功能,例如闭环反馈控制、防止等离子弧的故障安全机制,以及允许用户实时监控过程的视频设备。Crius I提供跨多个晶片的卓越均匀性,最大非均匀性在基板上小于1%。AIXTRON Crius I也有多个晶圆处理和盒式磁带的选项，有多个晶圆负载端口用于单个晶圆和盒式磁带交换的可能性。Crius能够分批沉积在单个或多个基质上。Crius I具有动态晶片冷却系统,具有单个或多个冷却区域,可实现卓越的增长率控制和峰值效率。AIXTRON Crius I还具有集成的装载机和卸载机,可实现最大的灵活性和生产力。最后，CriusI是一种300 mm的多用途反应器，能够进行HT和LT沉积。它是一个坚固而精心设计的平台，确保了掺杂剂控制的精确度和温度的稳定性，使用户能够生产高质量的复合半导体薄膜。AIXTRON Crius I先进的光学监控功能、动态冷却单元、集成装卸机使其成为先进复合半导体沉积工艺的绝佳选择。