二手 AIXTRON Crius I #9065474 待售
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ID: 9065474
优质的: 2008
31x2" GaN System
(1) EpiTT
Mikron M680
Thermal baths: (2) RM 25S and (6) RM 6S
Source Configuration
TMGa-1
TMGa-2
TMAl-1
Cp2Mg-1
Cp2Mg-2
TMIn-1
TMIn-2
TEGa-1
CBr4-1
DTBSi source lines
2008 vintage.
AIXTRON Crius I是一种先进、高效、水平配置的金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器,用于生产大面积、复合半导体材料层,用于光电、微电子和电力电子应用。Crius I具有强大的加工技术,其基础是利用加热的前体从多种化合物中产生高质量的层。高效的前体交付和交付均匀性,结合过程控制,实现了卓越的层质量和可重复性。AIXTRON Crius I采用激光烧蚀工艺清洗预先涂层的目标材料,并采用旋转叶片阀进行基板运输,确保反应堆内无环境转移。在高达1000 °C的高温下,Crius I能够产生具有先进材料特性和设备特性的层。AIXTRON Crius I利用高精度卡盘支撑基板,确保沉积过程中晶片粘附均匀一致,与其他沉积方法相比,具有更高的沉积速率和更好的层性能。其闭环气流、闭环压力和温度控制,以及计算机化沉积控制系统,实现了可重复、高效的工艺重复性和坚固的晶片/基板性能。它还配备了先进的前体输送系统,利用热波精确释放和沉积前体,在整个沉积过程中具有极高的材料均匀性。Crius I是快速、精确地制造各种2D和3D半导体结构和器件的理想工具。其精密的工艺监测和控制系统促进了新材料和设备结构的开发,这些材料和设备结构具有广泛的电子和光电子学的卓越性能,为制造下一代半导体材料和设备提供了完整的解决方桉。
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