二手 AIXTRON Crius I #9065476 待售

AIXTRON Crius I是一种化学气相沉积（CVD）蚀刻反应器，设计用于广泛的工业和学术研发应用。这种创新的反应器支持外延、多晶硅沉积、耐火金属沉积、薄膜掺杂等工艺。Crius I由石英工艺室、射频发生器、原位气体输送设备、真空泵送系统和先进的CVI控制器组成。AIXTRON Crius I石英室的设计具有最大的工艺灵活性。腔室内部装有石英腔室屏蔽，设计用于最大限度地减少污染，优化整个工艺的均匀性。腔室的设计保证了均匀的气体分布和热均匀性。此外，腔室屏蔽减少了蒸发冷凝，从而提高了工艺可靠性和可重复性。射频发生器设计为在腔室内提供可调节射频电源。这有助于控制工艺参数，如沉积速率、基板温度和气体成分。发电机装有自动ARCON（自动坡道控制输出）设置、优化器、软启动和RF功率输出监视器。这些元素的组合为优化和控制过程提供了极大的灵活性。Crius I配备了先进的原位气体输送装置。这台机器由四个独立的阀门块组成，每个阀门块都有自己的压力传感器，这使得过程的初始化和调整变得快速和容易。气体输送工具允许预先控制所需气体输入，如Ar、N2、O2、H2、SiH4、PH3、D2和许多其他处理气体。AIXTRON Crius I还配备了真空泵送设备，具有集成离子吸收器变频驱动（VFD）的设计特点。与机械泵相比，这可以实现更快的泵降时间和更高的整体效率。Crius I的高级CVI控制器设计用于自动化和集成整个模型,使用户能够监视和控制与过程相关的众多参数。这使得启动时间加快,过程结果更加一致。总之，AIXTRON Crius I是一种先进的、高性能的蚀刻反应器，提供卓越的工艺灵活性和可靠性。其石英工艺室、射频发生器、气体输送设备、真空泵送系统和CVI控制器的结合，为各种工业和研发应用提供了高效、经济高效的蚀刻解决方桉。