二手 AIXTRON Crius I #9351635 待售

AIXTRON Crius I是一种等离子体型热化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于优越的层沉积性能和工业级控制。适用于广泛的应用和材料，适用于高长宽比结构。Crius I的设计是在直径1到8英寸的晶片上沉积层。AIXTRON Crius I使用RF等离子体将源物质激发成离子和自由基态，以便在低温下产生均匀的涂层。该源材料作为汽化气体通过输液源引入腔室。气体随后被反应堆电源提供的射频等离子体激发。射频等离子体将气体分解为离子和自由基物质，它们与原料合并，在晶圆上形成所需的层。这样就形成了均匀的层次，具有极好的阶梯覆盖和无针孔的沉积物。Crius I配备了广泛的特性和功能，包括自动晶片装载机、离子束清洗、温度控制和监控、滚动泵、射频功率控制和多区模块。这使得层沉积与各种原料和多个基板，而无需额外的设备。AIXTRON Crius I是一种先进的热力CVD反应堆，设计用于工业级和工艺开发应用。适合高长宽比结构、高通量、可重复处理参数的层层沉积。与传统的PECVD或LPCVD工艺相比,Crius I允许的材料来源种类繁多,可确保提高可靠性和材料性能。