二手 AIXTRON Crius II X-L vu #9408188 待售
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ID: 9408188
MOCVD Systems
Gases:
N2
H2
NH3
SiH4
MO Baths:
LAUDA RM6 for C10H10mg
LAUDA RM6: 2-Storage
(CH3)3Ga
(C2H5)3Ga
(CH3)3Al
(CH3)3In.
AIXTRON Crius II X-L vu是为大型石墨烯结构生长而设计的最先进的化学气相沉积(CVD)反应器。其特点是具有可变浅室高度的凹入式磁化器设计,可精确控制石墨烯层的厚度和对齐方式。Crius II X-L vu还包括一个CVD清洁设备(CCS),它从晶圆中清除沉积的碳,以获得更好的材料质量和更少的杂质。此外,该系统还包括一个高精度晶片加热器,确保均匀和均匀的加热,以改进生长过程中的热控制。AIXTRON Crius II X-L vu是一种先进的CVD反应器,非常适合大面积石墨烯层的高通量和可重复生长。该单元通过一个专有的图形用户界面(GUI)进行控制,该界面允许对增长过程中的每个步骤进行完全参数化。这包括温度、压力和流量等参数,并允许对过程进行全面优化。Crius II X-L vu还包括一台可快速装卸晶片的锁载机。AIXTRON Crius II X-L vu提供优异的生长条件,温度可调节至1150 °C,压力可调节至100 Torr。这允许微调增长参数,以精确控制增长层的厚度、对齐方式、大小和数量。Crius II X-L vu也能够产生具有优异电性能的高品质连续石墨烯层。该工具包括一整套用于每个区域温度控制的独立温度控制器,以及独特的双侧腔室设计,提供相当大的整体资产效率。所有这些特性使AIXTRON Crius II X-L vu成为大规模石墨烯生长的绝佳工具。其先进的设计、高精度的晶片加热器和可调节的温度、压力和流量使Crius II X-L vu成为研究人员和行业工程师寻找研究和生产高质量石墨烯层的完美工具。
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