二手 AIXTRON Crius II #293591984 待售

AIXTRON Crius II是由AIXTRON开发的Crius低压CVD（LPCVD）设备的升级版生产版本。Crius II是一种多晶片反应器，其特点是能够提供优越的保形、均匀和可重复的前体沉积到多种晶片基板上。将前体材料密封，然后输送到CVD室中，在低压（1-200毫巴）和低温（200-600°C）下形成沉积物。AIXTRON Crius II是一种可靠、经济高效的解决方桉,适用于一系列研究应用。它的小室设计最大限度地减少了热载荷，提供了最大的均匀性和沉积物的可重复性。低压环境防止自由基影响所产生沉积的质量。因此,Crius II可实现低至0.5 nm的一致厚度变化。此外，反应堆具有广泛的温度和压力组合，可以有效地处理各种不同的材料增长，包括半导体和磁性材料的沉积。随着AIXTRON Crius II固有的精确度，该室进一步装备了AIXTRON 'ReadyPLUS'控制系统。这包括独特的腔室几何设计、增强的外壳层、自动和手动区域控制、改进的冷却和加热系统以实现温度均匀性以及可调节的气流监测单元。此外，为了实现工艺的灵活性，Crius II能够利用'顺序沉积'和'序列流控制'算法，使多层不同材料在一个腔室中沉积。这台具有开创性的控制机器还提供自动排烃、依赖于路线的配方管理和预防性维护功能等功能。综上所述，AIXTRON Crius II是一种先进的LPCVD工具，装备用于处理广泛的材料沉积应用。凭借其精确、可重复的沉积能力和精密的控制资产，Crius II是半导体和磁性沉积领域研究人员的理想选择。