二手 AIXTRON Crius II #293627743 待售

AIXTRON Crius II是为金属和介电材料的薄膜沉积而设计的高性能固体源沉积系统。它是AIXTRON Crius系列的最先进版本，在纳米材料的生产中被广泛视为改变游戏规则。Crius II结合了高吞吐量、可重复性和可靠性，用于生产用于光学和电子应用的薄膜。该系统由两个模块化源、一个源控制单元和一个源容器组成，均具有独立控制的热条件。基材的尺寸可达200毫米，可放置在加热阶段，最高可达1000 °C。有各种可移动的沉积源，包括磁控管和坩埚源，允许广泛的薄膜形成过程。AIXTRON Crius II能够生产厚度均匀、特性优异的薄膜，同时提供高达400nm/min的高沉积速率。该系统能够提供化学计量、缺陷密度降低的金属氧化膜，以及表面粗糙度优越、宏观形态优良的金属膜。它还具有较高的吞吐量能力，并针对大规模生产薄膜和纳米结构材料进行了优化。Crius II允许通过直观的图形用户界面进行过程控制,并且预装了多种薄膜材料的配方,从而实现了自动化过程控制。它还具有先进的安全功能和温度监测系统。AIXTRON Crius II是生产高性能薄膜的理想选择，具有生产均匀性提高、特性优越的薄膜的能力。CriusII具有广泛的可移动源、高沉积率和易于控制的工艺，是许多纳米材料生产的重要工具。