二手 AIXTRON Crius II #293636257 待售

AIXTRON Crius II是一种先进的化学气相沉积（CVD）反应器，旨在满足薄膜技术产业的需求。它是为无定形和结晶材料的沉积而建造的，目标是生产半导体、光学和显示材料。反应堆具有均匀的沉积过程，使复杂材料的多源沉积达到200毫米晶圆。这种AIXTRON Crius反应堆模型利用AIXTRON专利的非视线沉积技术，利用独立优化的独立热场。这提供了整个基板表面的精确温度均匀性，允许更精确的沉积过程。最重要的是，该反应堆采用了优越的气体溷合设计，能够对最终的薄膜厚度进行先进的工艺控制和更高的控制。该反应堆具有多种硬件特性，可提高底物处理能力和生产率。这包括晶圆升降机、晶圆冷却和气体预热、插入和移除以及自动压力控制。极短的热循环时间提供了快速的过程预热和冷却时间。Crius II还拥有可靠、高效的长期运营,运营和维护成本较低。此外,AIXTRON Crius II还具有一系列过程和生产率监控功能。这包括一个高分辨率的端点控制阀，一个视觉显示单元，一个晶圆边缘和边缘温度监视器，以及一个实时晶圆温度监视器。这些有助于确保快速高效的过程,同时在每次运行过程中产生一致的结果。所有这些功能使Crius II成为薄层技术公司的理想解决方桉。它可以精确处理复杂的半导体、光学和显示材料，从而产生更高的薄膜质量和基材产率。AIXTRON Crius II的快速热循环时间和可靠的操作使它在竞争中占据优势,使其成为任何生产方桉的绝佳选择。