二手 AIXTRON Crius II #293831257 待售

AIXTRON Crius II是一种化学气相沉积反应器（CVD），用于薄膜沉积和半导体加工。专为提供高级材料研究和器件制造的优质薄膜而设计。反应堆是一种单晶片大气压设备，在时间上最多支撑两个晶片。它提供0.7至2 Torr的低压和50至500 °C的高温范围。Crius II由几个模块和组件组成。两个主要模块是负载锁定系统和主腔室。负载锁定单元固定晶片,并在沉积过程中提供保护。主室是保护晶片免受气体和压力影响的圆形室。它还能防止外界污染，保持最佳沉积环境。AIXTRON Crius II还包括一台晶圆运输机，将晶圆送入和送出腔室。晶片传递工具配有传送带和推动器，在腔内移动晶片。Crius II由计算机资产提供动力，它控制模型的压力和温度，以及反应物的流动和沉积过程的时间。它允许用户调整温度和压力等参数，以满足他们的具体要求。AIXTRON Crius II还具有自动化设备，允许用户编程设置。这种自动化系统有助于降低沉积过程的复杂性，使其更加高效。Crius II的先进设计也是为了高效快速的沉积而设计的。它配备了先进的沉积技术，确保薄膜的沉积准确一致。它支持多种沉积技术，具有先进的预沉积室，为晶片的沉积做准备。这确保了在主室中均匀的化学沉积，从而产生高质量的薄膜。AIXTRON Crius II也被设计为方便用户。它提供了一个大的彩色触摸屏显示屏，允许用户直观地从正面控制单元。屏幕上的菜单使控制设备和设置沉积更容易运行。总之，Crius II是一种先进的CVD机器，为先进的材料研究和设备制造提供高质量的薄膜。它是为高效和快速沉积而设计的，其用户友好的界面使得它更容易使用。它具有先进的预沉积室、先进的沉积技术和自动化的编程工具，是薄膜沉积的绝佳选择。