二手 AIXTRON Crius II #9135739 待售

AIXTRON Crius II是一种优越的化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于生产用于半导体材料的优质薄膜层。该反应堆配备了先进工艺控制（APC）技术的先进设备，采用自适应算法最大限度地减少沉积速率波动以实现均匀冷却。它还有一个快速有效的控制膜温度的系统。Crius II包括两个用于装卸晶片基板的垂直晶片架。主室由不锈钢制成，在惰性气体环境下运行，以实现最佳均匀沉积。它还有一个有源气体流量控制单元，能够精确测量反应性气体溷合物，精确控制最佳原子层沉积所需的气体流量条件。AIXTRON Crius II还有一个脉冲电子束源机，用于在晶圆上的各个点产生局部加热，使其能够精确、均匀地沉积薄膜。此外,它还具有一个现场监视器,允许用户实时测量物理属性（如应力和电气属性）。为了进一步确保高产量，Crius II可以配备额外的工具能力，包括自动对焦和单晶炉。它还具有板载环形射流特性,有助于提高冷却速率并减少层间的膜运动。AIXTRON Crius II的设计符合薄膜生产精度和效率的最高标准。其先进的CVD工艺控制资产以最小的温度和速率波动提供了优越的效果。此外，其高效的惰性气体环境提供了清洁、均匀的沉积环境。加上自动对焦对准和环形喷射等附加功能，Crius II能够以最小的胶片运动达到最高品质的薄膜。总体而言，这种高效的反应器非常适合要求苛刻的半导体工业中的薄膜沉积。