二手 AIXTRON Crius #9299684 待售

AIXTRON Crius是一种先进技术、多晶片、化学辅助的化学气相沉积（CVD）设备，具有一系列精确的控制选项。它旨在帮助用户将薄膜材料沉积到不同尺寸的基板上，如晶圆基板、柔性胶带，甚至大基板（最高594mm）。Crius是一个多源多区反应堆，意思是整个沉积过程控制在同一反应室内。这样可以在不同温度和沉积速率下精确沉积薄膜。该系统还具有实时温度监测和高效的温度控制功能。AIXTRON Crius使用了一系列化学来源，包括氢气、氦气、氮气和其他气体，以及包括硅、碳和钨气在内的反应性元素。这使得它可以沉积多种材料，例如用于电子和光子学应用的薄膜。该单元还提供了对反应参数的精确控制，如气体流速、反应时间和晶圆温度，允许在各种各样的底物上均匀。Crius's deposition chamber are designed for enhanced uniformity and repeatability,确保每个沉积周期使用相同的精确参数,每次产生一致的结果。这个腔室包含一个石英反应堆窗口，具有先进的光发射监测能力，可以对沉积层进行详细分析。机器还包含一系列传感器，允许对工具进行监控和控制，使其以峰值效率和最大安全水平运行。已设置警报以提醒操作员资产操作可能出现的任何异常或潜在威胁。总体而言，AIXTRON Crius反应堆是一个强大而可靠的模型，可在各种基板上提供精确的沉积和均匀性，使用户可以更好地控制所使用的材料，并每次产生一致的结果。