二手 AIXTRON G3 2600 #9150530 待售
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ID: 9150530
晶圆大小: 4"
优质的: 2007
MOCVD Systems, 4"
LED for GaN
Heating type: RF Induction heater
Epi-tune: In-situ reflectance spectra
Software OS: Window
Gas system:
Gas type: VCR Type
MFC: Bronhost / N2 / H2 / HCL / SiH4 / NH3
Carrier gas:
H2 (Total flow : 70 l/min)
N2 (Total flow : 70 l/min)
MO-Source: TMGa, TEGa, Cp2Mg, TMIn, TMAl, UDMH, CBr4, DTBSI
Vacuum system:
Process pump: EBARA ESA25D Dry pump
Filter: Exhaust gas filter with chiller
Pressure control: MKS651 Controller
Throttle V/V
Utility:
Voltage:
System: 208V AC, 3 Phase
Heater: 380V AC, 3 Phase
Cooling system:
Cooling liquid: Water
Max.inlet pressure: <6 bar
Differential pressure: >4 bar
Inlet temperature: <25℃
Outlet temperature: <65℃
Included:
GMS Cabinet
Reactor cabinet
Exhaust and chamber
Scrubber
RF Generator
Particle filter
Pump
Power:
System: 25KVA
Heater: 144KVA
208 V, 3 Ph, 50/60 Hz
Currently de-installed and warehoused
2007 vintage.
AIXTRON G3 2600是专门为制造先进材料而设计的反应堆。它是目前市场上最强大的反应堆之一，提供高功率、多功能性和精确性能的组合。G3 2600具有300毫米的製程室，能够提供可控且均匀的温度，产生最佳的製程结果。它能够处理范围广泛的材料，如硅、氘、铝-氙-砷化物（AlGaAs）、硅-氙（SiGe）和氮化氙（GaN）。它还具有蒸发材料进行氧化和沉积的能力，同时提供了为应用优化的动态范围的工艺参数。AIXTRON G 3 2600配备了一系列高级功能,非常适合各种应用。其创新的设计使均质薄膜具有优异的保形膜均匀性和均匀掺杂，而其低热成本气源使氧化物沉积在较传统沉积技术相比具有较高的平面度。此外，它的可调整热预算还可以为单层和多层结构提供广泛的薄膜应力。G3 2600反应堆还通过具有过程反转功能的高级批量控制软件提供增强的自动化和过程监控。此软件便于预先编程的流程协议,并使操作员能够快速轻松地优化其系统参数。此外，AIXTRON G 3 2600的设计符合所有环境法规和事件预防法规，而工艺室的自动联锁将在发生任何潜在危险时立即停止该流程。此外,射频垫圈和铁氧体溷合等特性也有助于减少/消除膜污染,其密封几何形状确保了密封处理环境。G3 2600具有广泛的特点，是广泛研究和工业应用的理想反应堆。它为先进材料的生产提供精确的控制，可靠、高效、通用，是任何先进材料应用的绝佳选择。
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