二手 AIXTRON G3 ICHT #9296290 待售

AIXTRON G3 ICHT是一种用于先进半导体制造的领先气相沉积反应器。它旨在为纳米结构半导体材料和结构的生产提供可靠、精确和高生产率的性能。广泛用于MOCVD（金属有机化学气相沉积）、PECVD（等离子体增强化学气相沉积）和厚膜沉积。这种先进的CVD反应堆设备包括四个主要组件：驱动程序、腔室、电源和冷却系统.驱动器是反应堆的心脏，用于控制沉积过程。它由PC控制的"接口"和DC-driver两部分组成。该接口用于控制工艺参数,如工艺压力、沉积速度等.直流驱动器用于驱动电化学激活的沉积源，允许在超低温下进行非常精细的沉积。反应堆室采用不锈钢制成，并配有特氟龙和石英窗，用于查看过程。顶部和底部有两个矩形开口，使工艺气体被加热，适合后续反应。顶部的光学窗口还确保了控制过程和监控材料生长的效率。直流电源为驱动器和电源供电,确定沉积过程中的电压。该过程的温度由冷却装置监测和控制，冷却装置由冷却盘、水冷墙和温度传感器组成。这种冷却机能非常精确地控制沉积过程中的温度.G3 ICHT是一种用途广泛、可靠、精确的CVD反应器，能够生产高质量的半导体材料，厚度均匀性极佳。其坚固的设计能够快速沉积高质量薄膜,并且在工艺设计方面提供灵活性,即使在超低温下也能沉积各种材料。此外,该工具的固态可靠性和精细的过程控制可以克服与传统CVD过程相关的挑战。