二手 AIXTRON G3 #293779026 待售

AIXTRON G3是一种高性能沉积设备，适合用于研究，也适用于高端半导体器件的生产。这座反应堆采用紧凑的设计，非常适合小型生产运行的设备，最大工艺面积为500毫米x 350毫米。在性能方面,AIXTRON G 3能够在手动过程中达到高达0.5 μ m/min的沉积速率,在使用自动化时达到3.0 μ m/min的沉积速率。它还具有高度的灵活性，允许最多8个工艺，并支持各种沉积材料。G3采用平行板静电荷传递系统，在整个基板上实现了极好的沉积均匀性。该装置非常适合在材料层之间产生尖锐的界面，这对于生产先进的器件结构非常重要。G3还配有光学反馈控制机，以确保操作的一致性，以及塔式烤箱和晶圆夹具，用于精确的温度控制。AIXTRON G3配备了多种特性，使其适合多种应用。它具有惰性气体淋浴头，为沉积过程提供惰性大气，并可配备多种处理源，包括热蒸发、腐蚀性镀层、电子束蒸发。此外，它与一系列非蒸发源兼容，如离子束溅射、化学气相沉积和激光烧蚀。在安全方面，AIXTRON G3还配备了防爆电缆，可防止危险火花或火灾的危险，以及安全爆炸外壳，以保护人员在处理过程中免受高能火花的伤害。它还配备了实时过程监测工具，可以检测基板低温的波动，从而能够进行精确的控制。总体而言，G3是一种极其可靠且用途广泛的沉积资产，因此适合多种应用。对于那些为沉积过程寻找高性能和可靠模型的人来说，这是一个极好的选择。