二手 AIXTRON G3 #9163470 待售

AIXTRON G3是一种创新的激光驱动、水平型、低压冷壁化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于生产半导体材料。该反应堆是世界上第一个借助强大的AIXTRON激光设备，将对生长速度、温度、氧气浓度和沉积均匀性的精确控制相结合的反应堆。AIXTRON G 3能够处理多种材料，包括Si、SiGe、InP、III-V氮化物和氧化物，温度范围从室温到930 °C不等。它也适用于小面积外延，是生产高性能集成光子元件的理想选择。反应堆由一个内置两区工艺法兰的不锈钢真空室、一个AIXTRON激光系统、一个冷却器、一个石英窗和一个控制单元组成。加工室内部有两个隔间：一个"冷墙"和一个"热区"。冷壁控制底物温度，而热区则用于沉积。AIXTRON激光单元是为G3供电的关键部件。它使用两个专门的激光束来精确控制气流，并产生所需的功率水平进行沉积。控制单元在设定生长速率、温度、氧气浓度和沉积均匀性时允许灵活性。此外，冷却器确保基板温度保持在要求的范围内。G3是一款用途广泛、功能强大但易于使用的机器,可提供高质量的材料。它提供了可重现的工艺条件和可靠的无粒子生长和非常低的缺陷密度。这座先进的CVD反应堆适用于光电、MEMS器件等领域的研究和工业应用。它目前正在推动诸如集成光子学等领域的界限，预计这些领域将产生巨大的影响。