二手 AIXTRON G3 #9187985 待售

AIXTRON G3是由位于基尔的德国公司AIXTRON开发的反应堆模型。它是一种金属有机化学气相沉积（MOCVD）反应器，用于生长基于砷化的、用于III-V化合物半导体应用的材料（GaAs）。AIXTRON G 3能够实现高质量的外延和均匀性，从而允许生产光电元件如激光、发光二极管（LED）和光电探测器。G3具有多种安全和高效功能,有助于确保可靠的运行。首先，G3有一个"烘烤"设备，用于防止外延膜形成问题的舱室和气流优化。其次，单级VAR快门可防止不需要的蚀刻物种入侵。第三，喷射发电机防止导电表面的过度侵蚀，并允许最佳基板温度在生长过程中。最后，可以使用安全快门防止污染物进入反应室。AIXTRON G3还设有侧面入口系统，将粒子进入生长室的风险降至最低。此外，它的石英窗口允许在生长过程中容易观察。自动闸门控制、腔室过压保护、流线型基板传递机器人等功能有助于确保优化过程并降低出现问题的风险。AIXTRON G3使用压力平衡控制单元调节温度，使生长速率、层厚和相位的控制更加严格。这有助于确保均匀性和可重复的层增长。主动冷却机有助于保持外延所需的精确温度。此外，一个新的喷嘴设计允许均匀增长和提高膜的均匀性。G3多年来设计易于维护和可靠运行。强大的模块化设计可轻松更换任何部件,并有助于最大程度地减少停机时间。G3配备了一种排气工具，能够进行气体氧化和工艺后清洗。它还具有坚固的接触冷却资产和石英玻璃密封，以确保与基板的安全和无泄漏连接。AIXTRON G3是各种III-V复合半导体材料的高效可靠的反应器溶液。它结合了安全特性、基板传递机器人、控制模型和先进的冷却设备，确保了严格的过程控制和可靠的操作。其质量一致、缺陷小的产品，使其适合多样化、高产的半导体生产应用。