二手 AIXTRON G4-TM #293636228 待售

AIXTRON G4-TM是由AIXTRON设计制造的第四代反应堆，用于无定形、多晶和微晶薄膜等材料薄膜的工业规模沉积。AIXTRON G4 TM是一种最先进的反应堆,具有独特的原位停止电源传感器,可实时调节目标电源。这确保了整个沉积过程中准确可靠的过程控制。该反应堆的设计目的是在工业工艺水平上提供多用途和高通量的薄膜沉积。它提供了广泛的基材尺寸、材料均匀性和沉积速率，以及出色的薄膜特性均匀性，如组成、光学和电性能。其紧凑的设计和优良的控制特性，使得高通量，经济高效的沉积在薄膜涂层的生产。G4-TM提供了多种高级功能,使其成为薄膜沉积的理想选择。其中包括一个能量监测系统，以跟踪和监测沉积能量，使薄膜参数均匀，并防止诸如剪切边缘、剥落、开裂和变色等缺陷。采用较高的沉积压力，以提高沉积速度和均匀性。与其他反应堆相比，改进了自动化以降低人工和耗材成本，并降低了维护成本。反应堆由专门为G4 TM沉积设计的大功率射频发电机供电。这种发电机为200至1,000瓦提供精确和均匀的功率，使各种材料和合金的薄膜沉积具有各种操作模式。AIXTRON G4-TM提供出色的过程控制、可定制的参数和自动化操作。原位制动功率传感器能够自动调节目标功率，确保在整个过程中准确、可靠和经济高效的沉积。其反应时间短，精度高，保证了薄膜沉积结果的重复性和与其他沉积系统无法达到的极好的均匀性。此外,AIXTRON G4 TM反应堆设计灵活,易于集成到工厂系统中。它有单室和双室两种型号，以满足不同的应用需求。该系统与各种气体、材料和硬件兼容，以实现更高效的沉积过程。总体而言，G4-TM是一种先进的工业规模的薄膜沉积反应器，可提高薄膜的均匀性、工艺的可重复性和成本效益。凭借其先进的特点和多用途的配置，可用于生产符合最高质量标准的多种薄膜涂料。