二手 AIXTRON G4-TM #9364578 待售

AIXTRON G4-TM是为化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）或分子束外延（MBE）等应用而设计的高真空反应器。AIXTRON G4 TM专为金刚石、氧化物等半导体材料的最佳生长而设计，并以AIXTRON试用和测试的热壁CVD技术为基础。反应堆的腔室以仅1 x 0.4米的紧凑尺寸建造，以减少安装足迹。双分流管设计能够在调节废水反应物注射角的同时实现均匀的热电分布。基板由下方加热，气体分布通过腔室底部有多变的喷射口歧管的喷射器系统。为了过程控制和易用性G4-TM，它配备了直观的图形用户界面，显示虚拟过程和图形过程。G4 TM能够产生高达5.5氮化硼（BN）单层的金刚石晶体以及III组氮化物层，包括GaN、AlN和InN。AIXTRON G4-TM还配备了内置压力监控器和背景压力控制系统。压力可以降低到5 x 10-8毫巴的基压，允许更高的质量和可重现的生长周期。为了使AIXTRON G4 TM的输出最大化，它还结合了基板和喷射器两个独立的温度控制。这样可以进行精确的温度控制,以达到所需的工艺结果。安全方面，G4-TM密封，符合安全标准，如CE Marking、ATEX 94/9/EC、NFС990H2和UL Class 1 Division 1。反应堆还设计有可点火的安全气氛和过载保护，使其在纳米技术工业中用于实验室和商业应用极为安全。总体而言，G4 TM是一种高度可靠和先进的CVD/ALD/MBE反应堆，能够生产高质量的金刚石、氧化物和其他半导体材料。其直观的图形用户界面使其易于使用和安全，其内置的安全特性使其成为纳米技术行业中适合实验室和商业应用的工具。