二手 AIXTRON G4 #293652203 待售

AIXTRON G4是一种充气、线性、连续波、感应耦合的反应性离子蚀刻（RIE）反应器，用于纳米技术和半导体制造业的蚀刻和沉积过程。它是前所未有的性能、可靠性和过程控制级别的来源。AIXTRON G4具有坚固可靠的腔室设计，具有创新的气体管理系统，以改善气流均匀性，确保对基板的影响最小，减少腔室维护。该室配有先进的全自动工艺配方，沉积范围和均匀性极广。它还提供了反应性离子蚀刻（RIE）、原子层沉积（ALD）、电子束蒸发和溅射沉积等多种工艺能力。G4能够在1微米以下产生高品质、极严密的耐受特性。低压能力使蚀刻速度更快，而腔室压力可以预先设定以达到最佳蚀刻速率。其均匀冷却，确保了加热器温度均匀稳定。电源是模块化的,便于维护和升级蚀刻和沉积功能。较快的电源斜坡上升速率使蚀刻和沉积过程得到更好的控制和精度。此外，G4还配备了光发射系统，可准确测量工艺压力和腔室温度，提高工艺控制和能效。AIXTRON G4设计用于各种基材样品的小面积和大面积加工。该系统还集成了广泛的用于真空、气体、加热和等离子体控制的组件。这种强大的功能组合允许无与伦比的可靠性和过程控制,从而确保高吞吐量和可重复性。总体而言，AIXTRON G4是广泛蚀刻和沉积工艺的绝佳选择，在半导体和其他纳米技术制造操作中提供了改进的工艺控制、均匀性和吞吐量。它是减少循环时间和改进蚀刻和沉积过程的强大而可靠的工具。