二手 AIXTRON G4 #9206743 待售

AIXTRON G4是一种垂直化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于薄膜材料的外延生长。实现可靠、可重复和可控的CVD流程是由独特的流程优化就绪平台实现的。它受到全球许多领先研究实验室和工业中心的信任,提供了最高的精度和最佳的性能。AIXTRON G 4的反应堆具有纤细的垂直设计，允许较大的生长空间和最佳的表面温度平衡。反应堆室为避免热辐射而高度绝缘，从而确保底物上的温度分布完全均匀。这可以产生均匀的层结构和改进的层质量。G4具有广泛的功能,旨在最大程度地提高均匀性和可重复性。例如，它具有精细的气体流动系统，有助于保持沉积室中均匀的质量传输。它还具有可配置的工艺参数，如热速和沉积温度，可以精确调整。此外，G4配备了出色的真空密封性，保证了清洁高效的薄膜生长过程。AIXTRON G4也是研发的强大工具。它提供了修改和分析加工参数所需的准确性和灵活性，如气体成分、基板温度、工艺速率、应用压力等。这样可以快速调整和优化工艺和材料。这反过来又激发了创造力，并有助于加快新工艺技术和材料的开发。AIXTRON G4具有特殊的沉积特性，可导致极均匀和可重复的沉积。均匀的层结构，加上可调节的工艺参数，使得生产具有极大的灵活性。这有助于为广泛的光电、功能和结构特性开发高度优化的结构。总体而言,G4是一个功能强大、用户友好的系统,用于统一、可重复和可重现的CVD沉积。它的准确性和灵活性，加上精确分析过程参数的能力，使得它成为任何希望获得可重现结果的研究人员或工程师的宝贵工具。G4强大的设计和准确的性能使其跻身全球最抢手的CVD系统之列。