二手 AIXTRON AIX 2800 G4 #9232625 待售

AIXTRON AIX 2800 G4是由薄膜沉积领域领先供应商制造的备受赞誉的AIXTRON化学气相沉积（CVD）反应器。它是一种用途广泛、可靠的机器，可以很容易地适应广泛的应用和实验室需求。AIXTRON AIX2800G4提供了一个大的增长区域,在整个空间中具有高达6英寸的均匀性,从而可以更快地生产出更厚的薄膜。这种设备被用于各种工艺中，例如纳米颗粒的沉积、薄膜和电气特性映射（ECM）应用。因此，它可以用于电气设备制造、医疗诊断和显示器等多种用途。配有高效、稳定的石英晶体控制稳态频率发生器，用于工艺参数的精确控制。AIX 2800G4利用AIXTRON先进的HT CVD工艺,实现低温（LT）和高温（HT）生长环境。其坚固的设备可以有效和准确地控制工艺参数，如压力、温度、系统耗尽和沉积速率。它的自动化过程气体控制单元确保了该过程的均匀气体成分，使其成为一种可靠而高效的薄膜沉积装置。该反应堆采用先进的等离子体增强CVD（PECVD）机器建造，能够在低温范围内执行过程，以实现高效的装置制造。此外，其强大的直流和射频电源能够以比传统技术更高的沉积速率沉积均匀和致密的薄膜。其先进的光学工具采用了先进的源和过程诊断，使其成为专业实验室设置的绝佳选择。内部清洁能力使其适合大型工业应用。此外，AIX 2800 G4与各种工艺材料和气体兼容，使其能够用于不同行业的一系列应用。综上所述，AIXTRON AIX 2800G4提供了卓越的精度和可靠性，使其成为工业和实验室应用的理想选择。它配备了一系列高级功能,可帮助维护优化和高效的流程。