二手 AIXTRON G4 #9250875 待售

AIXTRON G4是一种高度先进的金属有机化学气相沉积（MOCVD）设备。它是能够进行多种材料沉积过程的高速反应堆，如III-V组半导体、氧化物和氮化物的单层和多层薄膜。AIXTRON G4系统带有两种不同的反应堆配置，RTP和Single Wafer配置。G4的RTP（Rapid Thermal Processing）反应堆配置为其用户提供了高达200 °C/秒的极快热循环时间。这使用户能够快速加工材料，大大提高沉积吞吐量。RTP还为用户提供精确的原位温度控制，允许更高效的均匀薄膜生长和减少设备校准时间。另一方面,Single Wafer配置提供了一个高度高级的过程控制环境,使用户能够将材料直接存放在晶圆上,从而无需额外的手动过程步骤。G4的另一大特点是高度自动化。实时过程监控单元、自动化过程控制、车载物料处理和自动晶圆返回系统等功能为用户提供了高效、高质量的沉积过程。此外，该机配备了先进的容错平台，为用户提供可靠、高性能的刀具操作，减少了停机时间。这些特性使得AIXTRON G4成为外延、光伏或LED制造等工艺的伟大反应堆。它快速的热循环时间使它能够在短时间内沉积多层材料，而其高度的自动化使得它成为一个连续运行过程的可靠工具。最后，AIXTRON G4反应堆的设计旨在为用户在材料选择上提供最大的灵活性，以及较高的整体工艺性能。