二手 AIXTRON G5 HT #193899 待售

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製造商
AIXTRON
模型
G5 HT
ID: 193899
晶圆大小: 2", 4", 6", 8"
优质的: 2010
MOCVD / GaN furnace, 2", 4", 6", 8" Susceptor: 14x4" EPI application: GaN for blue LED Currently in a cleanroom 2010 vintage.
AIXTRON G5 HT是一种革命性的、高性能的金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器,用于III-V、II-VI和复合半导体材料的生长。由AIXTRON开发制造的AIXTRON G5HT非常适合生长GaAs、InGaAs、InP、GaN、AlGaN,以及用于光电器件的相关材料,如激光、LED和激光二极管,以及复合半导体。G5 HT是一种水平反应堆设计,提供50毫米和75毫米底物的大腔室体积。可容纳615mm和1000 mm的最大基板尺寸。为了获得更高的晶体质量,G5HT具有独特的专利均质和通过改进的气流设计对原料进行非常低的固有传输,从而提高了整个基板上的材料沉积均匀性。反应器外壳采用高品位不锈钢制成,为提高晶体质量提供了最佳的均匀加热。AIXTRON G5 HT是先进半导体材料的可靠来源,提供结晶度、均匀度、表面形态和器件性能。它包括多个源,如加热的集群墨盒、无限源、气泡、液体注入源和射频源,允许高温和低温过程。AIXTRON G5HT还能够进行先进的氧化过程和双粒子束撞击。再者,G5 HT配备了广泛的硬件和软件工具,用于完整的散热、光学和过程控制,甚至进一步的多功能性。其中包括激光干涉仪、反射高能电子衍射图监测、质谱仪、压力传感器、氧气传感器以及AIXTRON专有AIMS™软件。所有这些特性结合在一起,创造了一个强大、可靠的MOCVD反应堆,能够为一系列光电和复合半导体器件生产高性能、高产量的材料。
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