二手 AIXTRON G5 #9225886 待售

AIXTRON G5是一种高温多硅反应器，用于硅基材料的沉积过程。它由AIXTRON开发和制造，AIXTRON是半导体和电子工业沉积系统的领先供应商。AIXTRON G5反应堆的设计目的是提供可靠和经济高效的沉积工艺。它适用于多种材料的薄膜沉积，包括：二氧化硅、氮化硅、硅零、氧化铝、催化氧化物和氮化铝。G5反应器利用一个放置底物的圆柱形石墨敏感器。然后用反应堆内的两个红外灯加热敏感器，产生高达1250°C的工艺温度。使用PID温度控制控制工艺温度,同时使用板载控制头调节精密沉积速率。此外，闭环过程控制系统采用多点温度监测，提供精确、均匀的温度分布。这确保了每个工艺周期中可重复的基板温度。G5还具有一系列分析工具和全自动流程序列。在过程的每一步，都可以监控和控制温度、压力和过程时间等众多参数，从而实现一致和可重复的结果。原位前体剂量系统允许精确剂量精确计量到反应堆中，确保均匀精确的沉积。AIXTRON G5反应堆能够容纳各种基材尺寸和形式，包括：圆形、矩形、椭圆形甚至不规则多边形。此外，它可以达到高达7nm/min的沉积速率，并且在利用前体材料方面效率很高，将废物排放量降至最低。为确保取得一致的结果，包括传感器集成探测器在内的各种保障措施已经到位，以监测该过程并保护反应堆免受潜在损害。AIXTRON G5反应器为薄膜硅沉积提供了可靠高效的平台。它能够提供一致的结果，适用于半导体和电子领域的广泛应用。