二手 AIXTRON G5 #9238984 待售

AIXTRON G5是为量产和研究而设计的最先进的沉积设备。该系统配备远程等离子体增强化学气相沉积技术，用于生产耐火金属硅化物、半导体等薄膜材料。AIXTRON G5是一种多级聚类工具，设计用于同时进行共溅射和ALE沉积过程。该单元具有高精度晶圆编码单元、四个溅射源、两个磁控管源、一个激光源、在腔室配置和刀具控制软件方面的高灵活性。此外，该机还包括一个用于晶圆移动和操作的定位模块，以及一个用于直接处理的内衬源和一个用于二次处理的DC/AC源。G5反应堆的设计提供了卓越的均匀性和薄膜质量，同时允许高达6英寸和8英寸的晶片进行加工。G5具有独特的溅射面板设计，提供精确的蚀刻控制和由此产生的光滑晶片表面。独特的设计还支持高线宽精度和配准的紧密公差涂层。AIXTRON G5工具通过不同的编程解决方桉提供了灵活性,使用户无需单独的计算机即可对资产进行编程。该模型还具有一个过程温度管理器，确保恒定温度和材料沉积速率，以便在整个过程中优化蚀刻和沉积。此外,AIXTRON G5专为高通量生产而设计,在整个生产过程中提供高可靠性和可重复性。G5反应堆是所有蚀刻和沉积过程的一站式解决方桉，具有出色的工艺控制能力。G5专为高通量和高品质薄膜的开发而设计，是先进研究和生产需求的理想选择。