二手 AIXTRON Gen 3.5 #9067299 待售
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ID: 9067299
Polymer Vapour Phase Deposition (PVPD) system
Dual stage load lock with independent vacuum system
Deposition chamber: Typically 0.1 mbar - 1000 mbar
Passive mask alignment accuracy: +/- 5 mm
Electro chuck for Gen 3.5 (0°-40° C)
Parylene-c pyrolyser
Gen 3.5 Shower head
Gap switch
Independent vacuum system with (2) pumps
(4) Mask capability
E-rack module
Water panel
Control display panel
Gas mixing unit
Pneumatic system
E-Racks
Control system
Safety system.
AIXTRON Gen 3.5是一个最先进的超高压外延生长反应堆。反应堆设计用于先进的增长应用，如生产新型光电和纳米电子材料，特别是用于光电器件和纳米电子的III-V类材料。AIXTRON Gen 3.5配备了创新的"易于使用"用户界面,可确保最多同时运行和维护三个腔室。AIXTRON Gen 3.5由独特的多阳极UHV/DP反应堆源供电。这种强大的光源使材料沉积具有更大的灵活性和更精确的控制，从而能够生产高质量的III-V类光电和纳米电子材料。它还提供了执行高级外延层工程的能力，允许更广泛的应用。反应堆的设计对其前身Gen 2.5进行了多项改进。这包括更快的沉积速率,高达0.5 µm/min,由于较高的压力特性而改善了均匀性,污染最小化以提高晶圆均匀性和产率,同时将工艺温度降低到500C。AIXTRON Gen 3.5具有集成的过程监控功能,可为用户提供详细、准确沉积III-V类材料的最佳参数。该系统还可以内部调节条件，以确保理想的过程一致性和效率。它具有最高的质量和最高的性能,非常适合外延层工程,用于新型光电和纳米电子应用,如发光二极管（LED）。AIXTRON Gen 3.5是市场上最先进的外延生长反应堆之一。其众多的创新特性，如快速沉积速率、先进的工艺监测和污染物控制，使其成为生产先进光电和纳米电子材料的理想选择。其卓越的功能以及易于使用的用户界面将为客户提供无与伦比的外延增长平台。
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