二手 AIXTRON LYNX-II #9092877 待售

AIXTRON LYNX-II是一种先进的等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）反应器，用于薄膜沉积。它采用闭合耦合淋浴头（CCS）架构建造，能够支撑多种基板，包括硅、蓝宝石、玻璃等。该反应器设计用于沉积氧化物和聚合物薄膜，具有高度的热均匀性。其配置允许进行一系列过程，包括金属有机化学气相沉积（MOCVD）、原子层沉积（ALD）、热解和低压化学气相沉积（LPCVD）。LYNX-II反应器具有等离子体气体高流量的高真空室，以实现高速率的薄膜沉积。腔室配有光学窗口，便于对过程进行监控。反应堆还包含一个两区室，允许在每一侧设置独立的温度。这种双区设计有助于减少缩合和反应引起的等离子体清除（RIPP）问题。使用机器人基板传输设备将基板装入腔室，该设备最多可容纳六个基板。该系统利用双轴级对基板位置进行精确控制。AIXTRON LYNX-II反应堆可以配备扩散泵来创建更高压力的等离子体过程。扩散泵可耦合到AFC®控制单元,该单元可用于控制过程参数。LYNX-II反应堆的控制机为'AFC Control II'。此工具包含触摸屏界面,允许用户控制各种参数,例如腔室压力、温度和流量控制。当达到或超过进程参数时,资产还能够生成警报。AFC Control II还具有"日志/记录"功能,该功能存储所有流程配方和信息。AIXTRON LYNX-II反应堆具有高纯度的"玻璃对金属"密封结构，提供了高度的材料兼容性。这样可以沉积不同材料的材料，包括金属、氧化物、氮化物和聚合物。使用不锈钢硬体有助于减少污染。总体而言，LYNX-II是一种用于薄膜沉积的强大而可靠的PECVD反应器。它的CCS体系结构允许在基板上同时沉积一系列材料，其先进的控制模型允许对工艺参数进行精确的控制。该反应器非常适合各种应用，是工业薄膜加工中必不可少的工具。