二手 AIXTRON LYNX-III #9083531 待售

AIXTRON LYNX-III是一种先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，用于半导体薄膜沉积在晶圆和其他基板上。它是一个三室生产级系统，用于在高温下生长以及通过带电气体添加进行原位掺杂。反应堆具有旋转晶片级均匀性，其六角形设计允许在密闭区域内进行高温。其氮气净化装置具有良好的沉积均匀性,在目标温度范围（750-850 °C）内具有更强的GaN沉积质量。真空泵，一个RCF，以及一个板载等离子体发生器提供了完美的膜质量有效的真空水平。该工艺气体进料机控制浓度组成，并允许同时溷合过程。先进的气体溷合工具对载气流、试剂气流、反应温度等几个变量提供了无与伦比的控制和重现性。集成气体分析仪还可以监测沉积过程的不同工艺参数。反应堆还具有自动晶圆处理资产，包括基板冷却和加热。LYNX-III具有紧凑的设计，便于安装和维护。它利用基于蒸馏的真空技术，包括几个安全特点，以确保人员免受触电、气体泄漏和意外燃烧。低斜坡时间<60秒可确保晶片的均匀性,并且模型能够支持任何空腔设计。可以安装多傅立叶变换（FTIR）和四极质谱仪，以达到高质量的效果。AIXTRON LYNX-III是一种先进可靠的设备，能够实现高度可重现和可控的沉积过程。它是研究和开发实验室以及制造设施的理想选择，并提供可靠和具有成本效益的薄膜沉积能力。