二手 AIXTRON LYNX-iXP #9092600 待售

AIXTRON LYNX-iXP
製造商
AIXTRON
模型
LYNX-iXP
ID: 9092600
晶圆大小: 12"
CVD system, 12" Process: metal films SiH4-based WSi DCS-based WSi Tungsten (W) Ultra-thin WSi film 15L MKS RPC Clean (1) Brooks Transfer Module (3) Process Module AC Rack Monitor Rack.
AIXTRON LYNX-iXP是一种先进的交钥匙等离子体加工设备,设计用于半导体制造的研究和生产应用。它采用了一种大功率沉积源,能够以极高的速率、均匀性和准确性沉积各种金属和其他材料。系统还配备了独特的交互式流程室,提供了根据应用快速调整流程条件的灵活性。使用LYNX-iXP,客户能够以更快的速度、更高的效率和更节省的成本来执行其流程操作。AIXTRON LYNX-iXP配备了内置的自动晶片处理单元,旨在提供不间断和可靠的处理,以减少潜在的污染风险和对被加工晶片的损害。其稳定、高精度的自动加载确保了高效的吞吐量和提高的产量,即使在使用更大的晶圆尺寸或更高沉积速率的材料时也是如此。LYNX-iXP由一台先进的等离子体发生器供电,允许用户精确、独立地对沉积参数进行编程。这允许从一个工艺步骤到下一个工艺步骤的高度过程均匀性,无论是层厚、化学成分,还是表面地形。这种精确度也使得AIXTRON LYNX-iXP成为特种材料沉积或纳米级特征沉积的理想工具。为了安全和高效,LYNX-iXP配备了集成的高级原位清除机(IPS),它使用户能够快速准确地调节工具的压力、温度、流量和溷合体。这有助于保持工艺质量,同时将甲烷和其他反应物保持在安全限度之内。AIXTRON LYNX-iXP还具有多种接口功能,可灵活地与各种现有系统集成,并结合工艺参数和迭加测量。自监控资产允许用户在不断监控整体性能的同时优化流程条件。该模型还可以随着用户需求的增加进行升级,从而实现从研究到生产的平稳过渡。总之,LYNX-iXP为用户提供了一个完整的交钥匙等离子体处理解决方桉,其精确度和灵活性可满足各种应用程序的需求。AIXTRON LYNX-iXP通过结合先进的自动化、高精度工具和集成过程,可以提高生产过程的效率和成本效益。
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