二手 AIXTRON LYNX-iXP #9098086 待售

AIXTRON LYNX-iXP
製造商
AIXTRON
模型
LYNX-iXP
ID: 9098086
晶圆大小: 12"
CVD system, 12" Process: metal films SiH4-based WSi DCS-based WSi Tungsten (W) Ultra-thin WSi film 15L MKS RPC Clean (1) Brooks Transfer Module (3) Process Module AC Rack Monitor Rack.
AIXTRON LYNX-iXP是一个独特的反应器,专门设计用于沉积半导体材料,如硅、砷化氙和磷化铵等。反应堆具有独一无二的结构,单晶圆可调工艺管,允许不同层在单个沉积操作中沉积。另外,腔室可以在不同的基板上支撑不同的基板尺寸,包括硅基板、砷化氙和磷化铵,以及非导电复合基板。该反应堆旨在为工业挥发性和吸湿性沉积过程提供最高水平的过程稳定性和最可靠的过程控制。通过使用先进的机器人技术和微机设备实现流程自动化和通信;两级供暖系统;模块化控制单元;快速反应扫描器;以及先进的真空机。使用LYNX-iXP可以达到0.5 Torr的腔室压力,这样可以实现较高的沉积速率,同时保持整个基板的均匀性。该室还配备了一个集成的热成像工具,提供关于被沉积层质量的实时信息。这种实时反馈能够更快地优化过程,并能够更准确地预测沉积结果。AIXTRON LYNX-iXP可以容纳高达6英寸x 4英寸的基板,并且可以与多种晶圆载体一起使用。反应堆还有一个内置的用于层厚度均匀性的高级均匀性(SUU)模块,与一系列高温过程兼容。LYNX-iXP具有长期的可靠性,在长期运行和晶圆吞吐量方面都有出色的记录。集成模块化控制器(IMC)允许用户在晶圆沉积过程中控制工艺参数,以及访问资产运行历史和性能的能力。操作方便,而且非常可靠。总体而言,AIXTRON LYNX-iXP为各种应用和基质提供了精确、可靠的沉积工艺。反应堆用途极为广泛,可用于各种材料的沉积,以及对沉积过程的精确控制和监测。其长期的可靠性和运行历史使得反应堆成为各种半导体材料沉积应用的绝佳选择。
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