二手 AIXTRON LYNX-iXP #9098087 待售

AIXTRON LYNX-iXP
製造商
AIXTRON
模型
LYNX-iXP
ID: 9098087
晶圆大小: 12"
CVD system, 12" Process: metal films SiH4-based WSi DCS-based WSi Tungsten (W) Ultra-thin WSi film 15L MKS RPC Clean (1) Brooks Transfer Module (3) Process Module AC Rack Monitor Rack.
AIXTRON LYNX-iXP是一种最先进的低压化学气相沉积(LPCVD)反应器,旨在满足半导体和MEMS工业的最高要求。这项创新技术提供了精确、可重复的薄膜涂层或基板,即使是最具挑战性的工艺。LYNX-iXP能够处理大批量和单个基板过程,而不会影响性能或可靠性。AIXTRON LYNX-iXP反应堆在均匀性、稳定性和可靠性方面提供了无与伦比的性能,所有这些都不会影响成本。LYNX-iXP是一个灵活的PVD系统,可以用于许多应用,从尖端的研究到成熟的生产。它有一个陶瓷涂层石英管,提供温和和均匀的底物温度,同时使用的是一种以氙氮为基础的工艺气体。AIXTRON LYNX-iXP还具有可调沉积区长的微调膜组成。反应堆的控制系统提供了一系列配方选项,包括易于实施和周期优化配方。这使得从一个进程快速切换到另一个进程变得容易。LYNX-iXP还配有一个集成的源腔,有助于在较长的过程周期内减少金属污染。AIXTRON LYNX-iXP除了坚固的设计和可选的源室外,还为开发人员提供了一个平台,为自己的开发定制流程和材料。反应堆可以配备远程等离子体、底物清洗、工艺后冷却等特性。这使得开发者可以尝试不同的材料、工艺配方和技术,从而可能导致微电子和纳米电子制造的进一步发展。LYNX-iXP是用于微电子和纳米电子器件生产的高效、可靠且具有成本效益的LPCVD反应器。这种创新的反应堆提供了其他系统所没有的能力,包括工艺开发、微调配方以及高质量、均匀的薄膜。AIXTRON LYNX-iXP具有广泛的工艺选项和可定制的功能,是要求苛刻的应用程序的理想选择。
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