二手 AIXTRON LYNX3 #9206615 待售

AIXTRON LYNX3是一种先进的化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于在太阳能电池、微LED、柔性显示器和半导体存储器等微电子和光电应用中沉积薄膜。它提供了出色的均匀性和优越的侧壁覆盖，以及优越的步骤覆盖复杂的结构。LYNX3利用冷墙反应器技术，大大减少了沉积室的温度变化。此技术消除了不希望的温度波动,并确保了一致的结果。AIXTRON LYNX3反应堆装有三颈垂直喷头，设计用于在大面积上沉积厚度均匀的薄膜。它有8英寸到24英寸的各种腔室尺寸,既提供大容量的生产能力,也提供中等容量的研发能力。反应堆还配备了先进的安全特性和多重过程控制能力，非常适合商业和研究应用。LYNX3配备了多气体注入系统（MGIS），用户可以准确控制反应物流量，以实现最佳的过程控制。此外，反应堆还配备了会聚发散喷嘴（CDN's），使薄膜在平面晶片上以及在诸如MEMS和高级介电层等物体的侧壁上均匀。该系统还支持前壁注入（FWI），这是一个旨在在金属化金属化层上实现铜沉积的功能。AIXTRON LYNX3反应堆具有先进的功率和温度控制系统，允许用户准确、精确地控制过程参数，以及实时监控沉积过程。光学样品检视可以让使用者评估沉积膜的质量。反应堆还支持流程监控软件包，使用户能够快速识别和排除流程问题。总之，LYNX3是一种先进的CVD反应堆，旨在满足微电子和光电工业的要求和应用。它具有多气体注入系统（MGIS）和前壁注入（FWI）等先进功能，使薄膜在平板晶片和物体侧壁上均匀。反应堆还具有先进的过程控制和监测能力，使其成为生产和研发目的的理想选择。