二手 AIXTRON LYNX3 #9206615 待售

AIXTRON LYNX3
製造商
AIXTRON
模型
LYNX3
ID: 9206615
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
CVD Systems, 12" (3) Chambers 2004 vintage.
AIXTRON LYNX3是一种先进的化学气相沉积(CVD)反应器,设计用于在太阳能电池、微LED、柔性显示器和半导体存储器等微电子和光电应用中沉积薄膜。它提供了出色的均匀性和优越的侧壁覆盖,以及优越的步骤覆盖复杂的结构。LYNX3利用冷墙反应器技术,大大减少了沉积室的温度变化。此技术消除了不希望的温度波动,并确保了一致的结果。AIXTRON LYNX3反应堆装有三颈垂直喷头,设计用于在大面积上沉积厚度均匀的薄膜。它有8英寸到24英寸的各种腔室尺寸,既提供大容量的生产能力,也提供中等容量的研发能力。反应堆还配备了先进的安全特性和多重过程控制能力,非常适合商业和研究应用。LYNX3配备了多气体注入系统(MGIS),用户可以准确控制反应物流量,以实现最佳的过程控制。此外,反应堆还配备了会聚发散喷嘴(CDN's),使薄膜在平面晶片上以及在诸如MEMS和高级介电层等物体的侧壁上均匀。该系统还支持前壁注入(FWI),这是一个旨在在金属化金属化层上实现铜沉积的功能。AIXTRON LYNX3反应堆具有先进的功率和温度控制系统,允许用户准确、精确地控制过程参数,以及实时监控沉积过程。光学样品检视可以让使用者评估沉积膜的质量。反应堆还支持流程监控软件包,使用户能够快速识别和排除流程问题。总之,LYNX3是一种先进的CVD反应堆,旨在满足微电子和光电工业的要求和应用。它具有多气体注入系统(MGIS)和前壁注入(FWI)等先进功能,使薄膜在平板晶片和物体侧壁上均匀。反应堆还具有先进的过程控制和监测能力,使其成为生产和研发目的的理想选择。
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