二手 AIXTRON R6 #9215060 待售
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已售出
ID: 9215060
优质的: 2014
MOCVD System
31"x 4"
Gas lines:
(2) NH3
SiH4
SMC:
(3) SMC Baths (Small)
(2) SMC Baths (Middle)
SMC Bath (Lager)
(2) EPISON4 Installed (TMIn-1 &TMIn-2)
MO Lines:
(2)TMG
DARK
(3) Cp2Mg
(2) Indium
TEG
MO Materials:
TMG
DARK
Mg
In
TEG
SiH4
NH3
Measure reflectance & temperature: Epi 3TT, EpiCurve_TT, Argus
Process pump: AD600H
WKL230 Chiller included
HORIBA STEC
Gas: GaN
2014 vintage.
AIXTRON R6是由德国领先的沉积系统制造商AIXTRON开发的单区-弧式反应堆。该反应器设计用于有机薄膜的沉积和低温CVD的应用。其特点是具有500 mm x 400mm工作容积的沉积室、圆形内壁设计、单区弧形等离子体源和高达200W功率的双区应用。其高温范围为20-480 °C,烘烤温度高达600°C。该反应器为高性能电介质和有机半导体薄膜的沉积提供了多种优点。大的工作体积能够容纳多达两个不同形状和大小的基板。它采用双区域设置,以确保在沉积过程中进行有效的热管理。这样可以防止反应器室内的热量积聚,并确保沉积的高度均匀性。再者,位于样品上方的单区电弧等离子体源产生了密度高的均匀等离子体场。这有助于在相对较高的沉积速率下实现较大的薄膜厚度。此外,R6易于操作和维护。它配备了先进的诊断和视觉指示器,使用户能够方便地监测血浆和沉积过程。而且反应堆具有模块化设计,便于更换和维护沉积系统。还配备了过电压保护、电弧检测等安全功能。由于其先进的特性,AIXTRON R6非常适合OLED、有机薄膜晶体管、传感器、显示器和其他有机薄膜器件的沉积。已成功用于生产商用器件,也被用于研究有机膜腐蚀性质和结构的项目。
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