二手 AIXTRON Tricent #9199207 待售
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ID: 9199207
优质的: 2005
CVD System
Cluster tool for wafer
Handling system: BROOKS Gemini GX6000
High-k dielectric layers
AVD System: Metallic nitride
2005 vintage.
AIXTRON Tricent是由AIXTRON开发的一种大气压力化学气相沉积(AP-CVD)反应器。该工具旨在为用户提供可靠、高性能的纳米材料和薄膜沉积平台。与其他CVD系统不同,Tricent采用先进的串联设计,可轻松与其他流程或设备集成。该设备具有三个主要组件-冷安装件、热安装件和喷嘴-它们旨在提供广泛的工艺能力和均匀性。AIXTRON Tricent的冷安装是一种坚固可靠的三区加热器系统,可确保整个基板的温度分布均匀。此外,冷气安装装置还具有先进的气体控制和净化机制,有助于实现卓越的温度控制和工艺稳定性。Tricent的热安装具有先进的弧形插头设计,允许用户以尽可能高的长宽比存放材料。此外,热装有一个优化的供气单元,保证了整个加工周期的最佳气体流量。本机设计为提供均匀的结构和完美的粘合沉积层.为确保薄膜沉积均匀,AIXTRON Tricent配备了高度精确的喷嘴。这种喷嘴是为长期运行而设计的,保证了材料的稳定和可再现的排放。此外,喷嘴能够产生精确尺寸和确定速度的液滴,这有助于确保在基板上均匀沉积薄膜。总体而言,Tricent是一个功能强大且用途广泛的纳米材料和薄膜沉积平台。能生产均匀厚、优质的层,附着力好、精度高。此外,其先进的串联设计使其易于与其他工艺和设备集成。
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