二手 AIXTRON TS 19x2" #9386610 待售

AIXTRON TS 19x2是一种高温化学气相沉积（CVD）设备，用于生产不同类型的材料，例如半导体工业中的薄膜或涂层。该系统配有热壁管状反应器，具有冷却基板支架和四个温度设置可调的加热气体喷射器。AIXTRON TS 19x2是一个可靠和高效的单元，可以精确控制生产材料的环境。它提供了多达18个可独立调节的温度区，使得在反应堆内产生均匀的温度分布并获得更精确的结果成为可能。AIXTRON TS 19x2还包括一个全封闭式的工艺室，可加压至10-3 torr。这有助于限制在材料沉积过程中逸出的加工气体的数量。AIXTRON TS 19x2具有可调节的转速，能够产生高品质、均匀和均匀的薄膜层。它还具有较高的吞吐量,同时使用较少的能源,这使得它成为传统CVD系统的一种成本较低的替代产品。此外，这台机器可以定制，以适应不同尺寸的基板，使其适合各种应用。AIXTRON TS 19x2是一种通用工具，可用于多种工艺，如金刚石状碳沉积、多层涂层、薄膜沉积等。采用均匀的前体气体分布，对工艺条件和均匀沉积进行精确控制，适用于各种工业应用。总体而言,AIXTRON TS 19x2是一种可靠的CVD资产,适用于各种流程。它提供了高吞吐量、可调温度设置和压紧处理室,使其成为一系列应用程序的高效模型。