二手 AIXTRON TS CCSH19*2" #9167079 待售

AIXTRON TS CCSH19*2是一种用于生产优质薄膜沉积物和外延层的高温化学气相沉积（CVD）反应器。它主要用于复合半导体材料的生长，包括一个创新的特点：垂直可调基板几何形状。这允许了比其他CVD反应堆更大范围的增长几何形状，也可以容纳直径达两英寸的基材尺寸。AIXTRON TS CCSH19*2的主室由不锈钢部件组成，旨在优化工艺产量。它结合了一个双壁电子束焊接过渡室和一个用于源材料的钼船，确保不会在主室外释放涂层过程中的粒子。主室还设计用于防止来自目标材料的反射。该腔室还具有对基板的温度控制，有效范围为+2000C，以及用于提高工艺一致性的高温计反馈。AIXTRON TS CCSH19*2反应堆还具有获得专利的源快门保护系统，即使在反应性沉积事件中也能保持源材料与基板的保护性接触。这有助于确保整个沉积过程的一致性，并保护原料不会过早氧化或失活。AIXTRON TS CCSH19*2反应堆设有进出口口，包括气线、真空线、质量流量控制器。这可以精确控制源气体和可能的掺杂剂，质量流控制器提供对沉积速率的完全控制。AIXTRON TS CCSH19*2还包括一个可编程的过程控制器，它允许精确控制沉积温度、压力和流量。这些特点确保了对沉积过程的精确控制和一致和可重复的结果。此外，AIXTRON TS CCSH19*2反应堆包括了一系列内置的安全特性，其中包括压力传感器、温度传感器和工艺端停止计时器。这样可以确保操作保持安全和一致,即使在最长的过程中也是如此。系统中包含所有控件,以便于监控和优化过程。AIXTRON TS CCSH19*2反应器是一种可靠、易用、高效的薄膜沉积CVD反应器。它提供了广泛的基板尺寸和几何形状，并允许沉积参数的精确控制。它还具有多种安全功能，以确保安全和一致的操作。所有这些特征使其成为生产高质量薄膜层和外延结构的理想选择。