二手 AIXTRON TS CCSH30*2" #9167080 待售

AIXTRON TS CCSH30*2是一种水平单晶圆半导体反应器，带有陶瓷涂层石墨敏感器。它设计用于一次处理多达八个晶片，使复合半导体基光电薄膜器件和其他需要复杂晶格结构和掺杂的光电器件的高效生产成为可能。该反应堆结合了先进的AIXTRON射频电感耦合等离子体（ICP）源和先进的设计特点，为沉积过程提供了卓越的吞吐量和精确控制。AIXTRON TS CCSH30*2反应堆采用CVD技术，能够沉积层和产生厚度达10纳米的结构。沉积采用三过程，直接电流感应耦合等离子体（DCIP）过程，使反应堆能够将所需的产生CVD的气体和氧气精确输送到反应室中。ICP源具有高功率发电机，能够向反应室提供高达550 W的功率。沉积过程使用一个敏感器和一次最多八个晶圆的组合。感光器被固定在一个水平平台上，该平台有一个可调的高度和宽度。这样可以精确控制晶片之间的高度和间距，有助于确保沉积过程中所有晶片的薄膜厚度均匀。反应室设计还促进了均匀处理，利用高效气体反馈控制，确保沉积过程极其精确和可重复。该室采用内置湿度和温度控制以及真空隔离系统。这有助于确保晶片整个表面的均匀沉积。AIXTRON TS CCSH30*2反应堆设计用于处理多种底物，包括Si、GaN和GaAs，可以配置为在单或多过程腔室环境中运行。它易于使用的界面提供了一大堆可以调整的设置，以确保最佳的底物和氧化物沉积。AIXTRON TS CCSH30*2反应堆是生产复杂光电薄膜器件的完美工具。它具有创新的设计，允许高吞吐量，沉积过程的精确控制，和均匀的薄膜厚度。它是寻求一种工具的工艺工程师的理想选择,该工具可以高效高效地创建质量最高的薄膜设备。