二手 AIXTRON TS CCSH30x2" #9386936 待售

AIXTRON TS CCSH30x2是一种常用的间歇反应器，非常适合薄膜的沉积。它能够沉积不同厚度的层，具有良好的均匀性和受控的轮廓形状。该反应堆也适用于各种应用，从溅射沉积到ALD（原子层沉积）不等。反应堆的设计包括单源射频磁控管源、抗反射（AR）基板架和多阴极。每个晶片的腔室温度可以在室温到500°C以上的范围内独立调节。工艺温度可通过射频源精确控制，涵盖范围广泛的任意操作点。腔内磁场的集中，即使在低温下也允许异质结构的沉积。晶圆架是为平面和线基基板设计的，并且可以调整源的高度以容纳不同的基板架。反应堆还配备了自动预配置系统，根据用户定义的参数，能够设定工艺条件，包括压力、温度、偏压和涡轮分子泵速度。AIXTRON TS CCSH30x2是一种可靠、高效的间歇反应器，能够沉积各种厚度的层。它的设计允许出色的均匀性和受控的轮廓形状，具有灵活的工艺条件和宽广的温度范围。该反应堆配有自动预配置系统，可快速方便地设置工艺参数，单源射频磁控管源为异质结构的沉积提供了最大的灵活性。总体而言，AIXTRON TS CCSH30x2是各种应用的理想选择，从溅射沉积到ALD。