二手 AIXTRON TS CCSH31x2" #9386612 待售

AIXTRON TS CCSH31x2"
製造商
AIXTRON
模型
TS CCSH31x2"
ID: 9386612
MOCVD Systems.
AIXTRON TS CCSH31x2是一种高温化学蒸气沉积(CVD)反应器,设计用于薄膜的高产生长。该反应堆采用AIXTRON专利的同心分离室(CSC)技术,为各种行业的CVD工艺提供了一种新颖而坚固的方法。TS CCSH31x2是一种水平配置的单晶片大气压反应器室,能够生产均匀性好、沉积速率高、粒度控制好的薄膜。CSC设计能够精确调制前体浓度,并且能够形成比传统方法更高质量的薄膜。反应堆的腔室由一个由挡板组件隔开的顶部和底部分离腔组成。顶室容纳待处理的锌-硒化物基材料,而底室容纳加热的碳化硅基加热器块。挡板组件保持所需的温度,并有助于将工艺前体保持在较低的腔室中,从而确保更高质量的增长。TS CCSH31x2配备了先进的CSC功能,使用户能够精确控制工艺前体的流量和温度。二次气体输送系统有助于减少活性气的数量,提高能源效率,同时保持所需的工艺参数。此外,CSC系统可提供长达60分钟的冷却时间,从而缩短运行时间,减少设备磨损。AIXTRON TS CCSH31x2独特的设计为CVD薄膜沉积提供了可靠且经济实惠的解决方桉,允许用户为各种行业生产卓越的薄膜。该反应堆配备了复杂的CSC特性,能够长时间保持所需的温度和流量。此外,二次气体输送系统和最多60分钟的冷却时间等其他功能进一步优化了工艺,确保了更高质量的效果。
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