二手 AIXTRON TS CCSH55x2" #9386947 待售

AIXTRON TS CCSH55x2是一种最先进的化学气相沉积（CVD）反应器，用于制造薄膜涂层和器件。它是一个200毫米宽、85毫米长的槽式反应堆，用于生产纳米厚的器件，包括一个集成的加热元件。该设备的运作方式是在受控温度和大气压下，一次处理单个半导体材料，或者在单相中，或者作为一系列多相。AIXTRON TS CCSH55x2的主要部件是加工室、CVD反应堆头和气体输送系统。加工室是由不锈钢制成的密封外壳，营造出均匀的温度环境，防止空气污染。CVD反应堆头含有加热元件，用于加热晶圆，均匀加热反应物。它还装有石英窗，让红外辐射进入加工室，同时仍然保护半导体材料免受灰尘和有害的紫外线辐射。气体输送装置负责以精确控制的量和精确控制的速度将反应物输送到加工室。AIXTRON TS CCSH55x2内置了多项安全功能,以确保用户的安全。机器包括压力和温度安全阀的组合，限制温度和压力的增加，以及在工具或腔室发生故障时紧急关闭按钮。反应堆还在加工室周围有真空绝缘层，使任何有害物质进入工作环境的可能性降至最低。AIXTRON TS CCSH55x2还拥有广泛的高级功能。这包括使用图形用户界面，允许用户与CVD反应堆直接读取和通信。这有助于通过提供有关资产设置的实时反馈来防止错误。CVD反应器还具有多种可调参数，使用户能够灵活和精确地生产高质量的薄膜涂层。AIXTRON TS CCSH55x2是一系列应用的理想选择,包括半导体沉积、涂层薄膜、整体集成和创建半导体器件组件。该反应堆提供了最新的技术和卓越的性能，使其成为一个可靠的工具，生产材料精确，均匀的层，在一系列的基材尺寸。