二手 AIXTRON TS OCSH 30X2 #9181587 待售

AIXTRON TSCOH 30X2是一种多功能的化学气相沉积设备，能够沉积各种功能材料，包括有机化合物、氮化物、氧化物和合金。它具有很高的工艺灵活性和极好的均匀性和控制性。AIXTRON TSCOH 30X2配有两个截然不同的工艺室，每个室都配有一组专用组件。第一个腔室提供减压外延（RPE）和化学气相沉积（CVD）功能,腔室压力为0.005至20 torr。这个腔室的特点是上部加热级带有一个敏感器加热器，而下部加热级则由介质加热器和活塞组成。上下级的运动可以独立控制到200毫米/秒。AIXTRON TSCOH 30X2的第二室是为固体源MBE工艺而设计的高温处理室。这个腔室有一个上部加热级，有一个ha带加热器，和一个热偶极组件作为下部分级组件。该腔室可容纳0.001至50托的工艺压力。AIXTRON TSCOH 30X2包括压力控制、温度控制和质量流量控制器,以最大限度地提高层均匀性,并对过程进行精确控制。该系统能够提供快速的温度循环、一致的性能和强大的计算机辅助过程分析。此外，该装置还可以对材料沉积过程进行远程控制，并对工艺室进行多区域控制，以实现精确的温度控制。安全和质量保证是AIXTRON TSCOH 30X2的重要特点,因为该机具有完全集成的安全互锁工具以及集成的气体泄漏检测资产（N2O监测）。模型的全自动操作有助于确保高流程正常运行时间和一致的流程产量。综上所述，AIXTRON TSCOH 30X2是一种多合一聚合物和半导体沉积溶液，设计为最大的灵活性和精确的控制。它能够沉积广泛的功能材料，并允许先进的参数控制，以获得准确可靠的结果。