二手 AIXTRON VP 2400HW #9269833 待售
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ID: 9269833
晶圆大小: 3"
优质的: 2012
SiC Reactor, 3"
Type: Modular CVD system
Gas handling: Electro polished (316) stainless steels tubing
Reactor: Electronic mass flow and pressure controllers
Heater: RF-lnduction heater 2x80 kW, 20-50 kHz
Maximum reactor temperature: 1600°C
MO Temperature control:
Recirculating controlled temperature baths
Accuracy: 0.05°C
Range: -10°C to +60°C
Mass flow control: Electronic mass flow controllers (HiTec)
Pressure control: MKS Baratron and valves
Back pressure controllers: HiTec
Power consumption: 22 kVA (Max)
Vacuum system:
EBARA ESA70WD Dry pump
Pressure sensor
Throttle valve
Pressure control
Vacuum valve
Cooling water system:
Digital flaw meters with data logging
Thermocouples for cooling water temperature monitoring
2012 vintage.
AIXTRON VP 2400HW是专门为生产化合物和金属有机半导体材料而设计的反应堆。它基于水平磁化器设计，能够处理2"至8"晶片。反应堆环境采用闭环计算机控制系统控制，便于监测、测量和调整过程参数。反应堆由安德森泵、反应室和散热器组成。安德森泵有助于创造过程所需的高真空，而反作用室则包含被蒸发的源材料，而散热器则使该室冷却。腔室还包含三个加热区：感光器、侧壁和腔室底部，它们可以独立调整以精确地达到所需温度。反应堆采用直流（DC）磁控管溅射技术原理运行。这种方法利用动态电场加速带电粒子（离子）朝向目标材料。通过雾化这些目标材料，AIXTRON VP 2400 HW能够在材料之间产生极强的附着力，并产生精确均匀性的材料膜。该反应器具有保证工艺参数精确控制的几个特点。五步时间温度程序允许直接控制反应温度和速率。这一特点与计算机化配方和可重复过程相结合，以确保工作的安全性和一致性。VP 2400HW配备了一套安全功能，帮助保护操作员避免意外接触反应中使用的有害物质。安全功能包括在紧急情况下关闭系统的安全联锁系统，以及有助于防止在运行过程中意外打开反应堆门的安全百叶窗。VP 2400 HW是生产化合物和金属有机半导体材料的可靠高效反应器。凭借其计算机控制的环境、对温度的精确控制以及安全特性，使加工材料安全、经济高效且可重复。
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