二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-01286 #293663303 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286反应堆是一种高真空化学气相沉积（CVD）反应堆。这类反应器在半导体工业中用于生产微电子器件的晶体，如晶体管、集成电路以及电子系统的其他组件。反应器的工作原理是在产品表面沉积所需元素的薄膜。该工艺通常用于制造氧化物、氮化物或其他材料涂覆产品的涂层。AMAT 0010-01286反应器设计用于高温，用于在高达1200 °C的温度下沉积薄膜金属层。该反应器具有湿化学反应室和微波等离子体源，可有效沉积薄膜。等离子体源可确保产品的高产率和可重复沉积剖面。腔室通过真空设备进行压力控制，过程监测通过温度控制系统进行。反应器包含一个反应室的过程气体入口，以及一个过程排气单元。气体入口用于引入前体气体，例如硅烷气体用于硅的涂层，并引入过程所需的载体，如氧气和氢气。过程排气机从反应室中去除反应产物，如未反应分子或水，防止反应室过热。APPLIED MATERIALS 0010-01286反应器还具有一个联锁特性，可以在任何反应条件变得异常时停止反应过程。这确保了整个过程的最佳热稳定性。此外，该反应器由耐用的不锈钢制成，设计方便操作与数字控制面板。0010-01286反应堆是高新技术行业薄膜沉积的理想选择。该反应器为高产率薄膜沉积提供了可靠、可重复的工艺。该反应器由优质材料构成，为优化反应过程提供了温度和气体条件的精确控制。联锁安全工具可确保用户和设备的最佳性能和安全性。