二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-01286 #9311052 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286反应器是一种功率堆积的溷合脉冲功率/等离子体沉积工具，专为半导体栅极介电和记忆装置膜沉积应用而设计。它是一种高度可靠和高效的生产级设备，采用了最先进的脉冲直流磁控管溅射技术。AMAT 0010-01286反应堆包括一个20英寸的不锈钢室，带有钟形、不锈火焰喷雾系统，具备先进的加热、冷却和大气控制能力。该单元还提供了一个创新的自适应层沉积（ALD）功能，同时保形薄膜和薄通道沉积。该反应堆还配备了基于Allen Bradley PLC的控制机器，以确保可靠、可重复和可重现的沉积结果。此外，应用材料0010-01286反应器包括一个底物源发生器，可以精确地形成和控制所需的底物沉积温度。该工具还包括一个复杂的溅射方位角控制功能，可以调整溅射压力和角度的过程窗口。此外，0010-01286资产还配备了先进的电子回旋共振等离子体蚀刻技术，用于材料的表面处理。腔室采用氮气和氦气加热/冷却模式主动冷却，确保温度均匀，热管理出色。冷却设备的工作原理是从基板源和推进器腔中吸入气体，并在腔壁周围循环。这样可以确保加工过的材料不受常规半导体加工所固有的热波动的影响。AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286系统还具有可靠的过程监控功能。它配备了实时、就地的粒子测量模块，以精确监控过程，并保持对等离子体腔的严密控制。此外，该单元还提供微创无损端点控制模块，以准确测量沉积过程的端点。AMAT 0010-01286机器提供了一个一致且可重复的过程，这对于TiN门介电和内存存储设备的制造是必不可少的。APPLIED MATERIALS 0010-01286反应堆工具提供了符合当今半导体技术最高标准的高效、可靠且节能的解决方桉。