二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #293632752 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254
ID: 293632752
晶圆大小: 8"
MCA E-Chuck, 8".
AMAT/APPLICED MATERIALS 0010-03254是一种用于半导体制造的反应器,用于在晶圆表面沉积薄膜。该反应堆的设计效率极高,但可靠且具有成本效益,可提供一致的高质量薄膜输出。该反应堆采用受控物理气相沉积(PVD)。PVD是一种薄膜沉积过程,发生在称为沉积室的环境中。在该腔室内,引入汽化材料,然后沉积在预定义的基板上。这种基材通常是半导体晶圆。在半导体PVD的情况下,引入腔室的气体中含有前体分子,这些分子随后被分解成反应性更强的原子和分子,然后以定向和保形的方式沉积在晶圆表面上。AMAT 0010-03254反应堆采用先进的传统PVD室设计,经过优化,具有较高的吞吐量和效率。因此,反应器能够处理大量的底物,最小的循环时间和薄膜沉积的吞吐量。在其基本设计中,反应堆由多个部件组成。这些部件包括惰性气体供应管道、目标支架、溅射源组件、RF或直流电源、阳极组件和真空系统,以及腔室本身。APPLIED MATERIALS 0010-03254反应堆装有其他几个特性。例如,它可以被编程为通过各种气体引入速度自动过渡,同时具有光背景和粒子监控器。这允许用户手动或自动观察和监视进程的进度。它的作用是将前体和惰性背景气体泵入腔室,在腔室中它们反应并迅速沉积到晶圆表面上。工艺温度和压力可以精确控制,允许优质薄膜与多种材料沉积。根据所使用的材料和应用,可以采用各种不同的腔室几何形状,如开放式、钟形或其他类型。0010-03254是一种高度可靠、经济实惠的半导体制造方式。它可以生产厚度均匀的薄膜,具有出色的阶梯覆盖率。由此,成为半导体制造流程中的重要资产。
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