二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03500 #293670004 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03500是一种用于化学气相沉积（CVD）工艺的反应器。它是一种专门的工艺设备，用于将金属、半导体、介电和有机化合物的薄膜涂抹在多种底物上。CVD反应堆利用热和化学过程使材料蒸发，然后将其沉积到基板上。这个CVD反应堆有一个风冷的热板，设计用于水平或垂直配置。热板有3个区域，可以精确地控制基板的温度，其设计允许在整个基板上均匀沉积。反应堆还设有一个设计均匀加热的多区石英加热器，温度范围为室温至1000 °C，公差± 1%。该反应堆被设计为可与硅、铝、砷、磷化铵、碳、金属有机化学等多种材料配合使用。该反应堆还设计用于与各种载流子气体一起工作，包括氮气、氙气和氢气，用于氧化过程。AMAT 0010-03500 CVD反应器可用于各种应用，包括厚膜加工、半导体制造的RTP（快速热处理）、薄膜沉积以及与MEMS兼容的薄膜加工。大的加热面积和可调节的气流使得这种反应堆适合大规模的应用。反应堆还配备了气体歧管，可在CVD过程中精确控制多个气体。气体管线装有质量流量控制器，用于精确控制气体流向反应堆的速率。这确保了对各种底物和产物类型可重复的CVD反应。应用材料0010-03500 CVD反应堆的设计考虑了安全性和便利性。利用其PMM（电源监控模块），它为热板和石英管元件以及安全联锁提供电源监控。反应堆还具有压力传感器、地面故障中断器和真空互锁等一系列安全特性。凭借所有这些特点，0010-03500 CVD反应堆是一个可靠、安全、灵活的加工设备。