二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03840 #293659921 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03840是一种用于CVD（化学气相沉积）处理的通用反应器，可用于多种半导体器件制造应用。真空室由不锈钢构成，直径48英寸，长度48英寸。它能够在高达400-500 mbar的压力和高达400°C的温度下运行。内部基板直径24英寸，可容纳四个200毫米晶圆。反应堆配有射频电源和UPW（超纯水）设备，用于维持清洁干燥的工艺环境。该系统可以安装额外的可选设备，以提供额外的辅助功能，如电离、等离子体蚀刻和基板加热。AMAT 0010-03840 CVD反应器在晶片表面具有较高的温度均匀性（<± 3°C）,能够实现较高的薄膜沉积均匀性（<± 2%）。还配备了应急流程-气体关闭装置和安全机器监控室压力、温度、应急降压。反应堆设计紧凑经济，非常适合用于研究和原型设计。射频发电机具有很高的控制能力，对每一层的沉积参数都有很高的控制能力。该工具高度自动化,需要最少的人员培训和时间来启动和运行。此外,该资产极其可靠可靠,而且对停机和服务的要求极低。总之，APPLIED MATERIALS 0010-03840 CVD反应器是一种可靠、高性能的CVD模型，可用于制造多种半导体器件。其紧凑、经济的设计使得它成为成本和空间都值得关注的应用的绝佳选择。温度、薄膜厚度和沉积速率的高均匀性，以及其安全性、可靠性和易用性，都有助于使设备成为许多应用的绝佳选择。